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ポストシリコン半導体 ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果 (物質科学 材料科学 ナノ科学 ナノマテリアル 電子材料工学 半導体工学

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管理番号 新品 :55922195066
中古 :55922195066-1
メーカー 4034261 発売日 2025-04-26 23:59 定価 24000円
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ポストシリコン半導体 ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果 (物質科学 材料科学 ナノ科学 ナノマテリアル 電子材料工学 半導体工学

Nakatsuka LaboratoryNakatsuka Laboratory,厚さわずか数分子、2次元有機単結晶ナノシートの大面積成膜に成功 | NIMS厚さわずか数分子、2次元有機単結晶ナノシートの大面積成膜に成功 | NIMS,2D Semiconductors 社 製品 (ナノマテリアル) | 材料科学 高品質 二次元磁気材料 2D 単結晶 |  海外ハードウェアの購入・導入ならUNIPOS(ユニポス)2D Semiconductors 社 製品 (ナノマテリアル) | 材料科学 高品質 二次元磁気材料 2D 単結晶 | 海外ハードウェアの購入・導入ならUNIPOS(ユニポス),ASCII.jp:岡山大学、NIMSなど、室温で製造できる有機薄膜トランジスタを開発ASCII.jp:岡山大学、NIMSなど、室温で製造できる有機薄膜トランジスタを開発,半導体故障解析の手順 | 受託分析サービス | 東芝ナノアナリシス株式会社半導体故障解析の手順 | 受託分析サービス | 東芝ナノアナリシス株式会社

 

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